Με την ταχεία ανάπτυξη της τεχνολογίας ημιαγωγών, η ζήτηση για ταντάλιο που χρησιμοποιείται ως διασκορπισμένη μεμβράνη αυξάνεται σταδιακά. Στα ολοκληρωμένα κυκλώματα, το ταντάλιο λειτουργεί ως φράγμα διάχυσης. μεταξύ του ξηρού πυριτίου και του κορμού του οδηγού. Οι μέθοδοι παραγωγής των στόχων εκτόξευσης είναι η μεταλλουργία πλινθωμάτων (L/M) και η μεταλλουργία σκόνης (P/M). Οι κοινώς χρησιμοποιούμενοι στόχοι είναι γενικά κατασκευασμένοι από πλινθώματα μολυβδαινίου, αλλά σε ορισμένες ειδικές περιπτώσεις, όπως οι στόχοι από κράμα αργύρου-πυριτίου, η μέθοδος L/M δεν μπορεί να χρησιμοποιηθεί λόγω των διαφορετικών σημείων τήξης του τανταλίου και του πυριτίου και της χαμηλής σκληρότητας των ενώσεων πυριτίου. Μόνο η μεταλλουργία σκόνης μπορεί να χρησιμοποιηθεί ως στόχος.
Η απόδοση του στόχου επηρεάζει άμεσα την απόδοση του διασκορπισμένου φιλμ. Ουσίες που μολύνουν τη συσκευή ημιαγωγών δεν πρέπει να υπάρχουν στο σχηματισμό του φιλμ. Κατά τον σχηματισμό της μεμβράνης επιμετάλλωσης μετάλλου, εάν υπάρχουν ακαθαρσίες στον στόχο τανταλίου, θα εισαχθούν ακαθαρσίες στον θάλαμο διασκορπισμού τανταλίου, προκαλώντας την προσκόλληση χονδροειδών σωματιδίων στο υπόστρωμα στόχου και την αστοχία του κυκλώματος λεπτής μεμβράνης. Ταυτόχρονα, οι ακαθαρσίες μπορούν επίσης να προκαλέσουν αύξηση των σωματιδίων προεξοχής στο λεπτό φιλμ. Συγκεκριμένα, ακαθαρσίες όπως αέριο οξυγόνο, άνθρακας, υδρογόνο, άζωτο κ.λπ., που υπάρχουν στον στόχο είναι πιο επιβλαβείς επειδή προκαλούν ανώμαλη εκκένωση, προκαλώντας προβλήματα με την ομοιομορφία του σχηματιζόμενου φιλμ. Επιπλέον, για τις μεθόδους μεταλλουργίας σκόνης, η ομοιομορφία του εναποτιθέμενου φιλμ είναι συνάρτηση του μεγέθους των κόκκων στο στόχο, με λεπτότερους κόκκους στο στόχο που έχουν ως αποτέλεσμα ένα πιο ομοιόμορφο φιλμ. Επομένως, υπάρχουν υψηλές απαιτήσεις για την ποιότητα της σκόνης τανταλίου και των στόχων τανταλίου.
Προκειμένου να ληφθούν υψηλής ποιότητας στόχοι αργύρου σε σκόνη και ταντάλιο, πρέπει πρώτα να μειωθεί η περιεκτικότητα σε ακαθαρσίες στη σκόνη μολυβδαινίου και να βελτιωθεί η καθαρότητα της σκόνης τανταλίου. Όπως όλοι γνωρίζουμε, η απόδοση του υλικού τανταλίου είναι σχετικά σταθερή, αλλά η σκόνη τανταλίου με σχετικά λεπτό μέγεθος σωματιδίων είναι πολύ ενεργή. Ακόμη και σε κανονικές θερμοκρασίες, είναι εύκολο να αντιδράσουμε με οξυγόνο και άζωτο, γεγονός που θα αυξήσει σημαντικά την περιεκτικότητα σε ακαθαρσίες όπως οξυγόνο και άζωτο στη σκόνη τανταλίου. βελτιώσει. Αν και η καθαρότητα ορισμένων προϊόντων μεταλλικού τανταλίου, όπως τα εμπορικά πλινθώματα τανταλίου, μπορεί να φτάσει το 99,995 τοις εκατό ή και υψηλότερη, όσο λεπτότερη είναι η σκόνη τανταλίου, τόσο υψηλότερη είναι η αντίστοιχη δραστηριότητα και η ικανότητα προσρόφησης οξυγόνου, αζώτου, υδρογόνου και άνθρακα αυξάνεται επίσης. Η αύξηση της καθαρότητας της σκόνης τανταλίου πάνω από 99,99 τοις εκατό θεωρούνταν πάντα αρκετά δύσκολη και δύσκολο να επιτευχθεί. Θεωρείται ακόμη ότι είναι δύσκολο να μειωθεί περαιτέρω η περιεκτικότητα σε οποιαδήποτε από τις επιβλαβείς ακαθαρσίες σε οξυγόνο, άνθρακα, υδρογόνο και άζωτο, και είναι ακόμη πιο δύσκολο να μειωθεί η περιεκτικότητα αυτών των τεσσάρων επιβλαβών ακαθαρσιών ταυτόχρονα. Ωστόσο, η μείωση του μεγέθους των σωματιδίων της σκόνης τανταλίου είναι πολύ απαραίτητη για τη βελτίωση της ποιότητας της σκόνης τανταλίου και των στόχων τανταλίου. Το πεδίο στόχος ελπίζει να αποκτήσει σκόνη τανταλίου υψηλής καθαρότητας με μέσο μέγεθος σωματιδίων D<25>
Η Baoji Yusheng Metal Technology Co., Ltd. μπορεί να παράγει διάφορους τύπους προϊόντων τανταλίου όπωςστόχους τανταλίου υψηλής καθαρότητας, σκεπάσματα τανταλίου και στόχους τανταλίου για ημιαγωγούς. Αντίστοιχες ανάγκες αγορών, μπορείτε να επικοινωνήσετε με το προσωπικό της εταιρείας μας ανά πάσα στιγμή.
