Περιστρεφόμενος στόχος οξειδίου του νιοβίου

Προς το παρόν, ο πιο χρησιμοποιούμενος στην αγορά είναι ο επίπεδος στόχος οξειδίου του νιοβίου, αν και η τεχνολογία προετοιμασίας επίπεδων στόχων γίνεται ολοένα και πιο ώριμη, το ποσοστό χρησιμοποίησης επίπεδων στόχων στη διαδικασία χρήσης είναι μόνο 20-30 τοις εκατό , ότι είναι ότι το μεγαλύτερο μέρος του στόχου σπαταλιέται, αυξάνοντας ουσιαστικά το κόστος παραγωγής. Προκειμένου να βελτιωθεί το ποσοστό χρήσης του υλικού-στόχου και να μειωθεί το κόστος παραγωγής της επιχείρησης, οι άνθρωποι άρχισαν να μελετούν νέους τύπους στόχων και διαπίστωσαν ότι το ποσοστό χρησιμοποίησης του περιστρεφόμενου στόχου είναι πολύ υψηλό, το οποίο μπορεί να φτάσει το 70-80 τοις εκατό , και το υψηλό ποσοστό χρήσης μπορεί να μειώσει το κόστος των κατάντη προϊόντων, ενώ είναι πιο φιλικά προς το περιβάλλον και εξοικονομεί υλικά.

Επί του παρόντος, η παραγωγή περιστρεφόμενων στόχων οξειδίου του νιοβίου υιοθετεί κυρίως μια διαδικασία ψεκασμού και ο στόχος που παράγεται από αυτή τη διαδικασία είναι λιγότερο πυκνός, γενικά, λιγότερο από 80 τοις εκατό, που είναι εύκολο να προκαλέσει ανάφλεξη και σκωρία κατά τη διαδικασία χρήσης, η οποία σε Η σειρά επηρεάζει την ποιότητα και την απόδοση των κατάντη προϊόντων. Επιπλέον, περιορισμένο από το μέγεθος του κλιβάνου θερμής πρέσας και το μέγεθος του καλουπιού γραφίτη, το ύψος του στόχου νιοβίου που παρασκευάζεται με τη μέθοδο θερμής συμπίεσης είναι μικρό, γενικά μικρότερο από 100 mm, και για το περιστρεφόμενο δέρμα Ε με μήκος { {2}}, είναι συνήθως απαραίτητο να συναρμολογηθούν 15 στόχοι σωλήνων με ύψος 10 mm για να μπορέσει να χρησιμοποιηθεί, με αποτέλεσμα περισσότερες ραφές και επηρεάζοντας την ποιότητα του προϊόντος επίστρωσης. Λόγω των παραπάνω ελλείψεων, ορισμένοι κατασκευαστές με υψηλές απαιτήσεις για ποιότητα sputtering στην αγορά χρησιμοποιούν ξένους περιστρεφόμενους στόχους, οι οποίοι έχουν υψηλό κόστος και συχνά υπόκεινται σε ανθρώπους. Ως εκ τούτου, είναι επείγον να αναπτυχθεί μια διαδικασία για την προετοιμασία εξαιρετικά συμπαγών περιστρεφόμενων στόχων για την κάλυψη της τρέχουσας αυξανόμενης ζήτησης της αγοράς.

Η εταιρεία μας μπορεί να ξεπεράσει τις ελλείψεις της υπάρχουσας τεχνολογίας και να παρέχει έναν περιστρεφόμενο στόχο οξειδίου του νιοβίου με υψηλή πυκνότητα και καλή αγωγιμότητα. Με τη νανοκατεργασία, η σκόνη πρώτης ύλης, το μέγεθος σωματιδίων της σκόνης μεταλλικού νιοβίου μειώνεται σημαντικά και η κατανομή της σκόνης μεταλλικού νιοβίου στη σκόνη οξειδίου του νιοβίου είναι πιο ομοιόμορφη, έτσι ώστε η αγωγιμότητα του υλικού στόχου να είναι υψηλότερη. Επιπλέον, το στάδιο επεξεργασίας πυροσυσσωμάτωσης στην ατμόσφαιρα υιοθετείται για να αυξηθεί περαιτέρω η πυκνότητα του υλικού στόχου με τμηματική θέρμανση. Επιπλέον, το πάχος του τεμαχίου στόχου μπορεί να ρυθμιστεί ελεύθερα σύμφωνα με τις απαιτήσεις και δεν υπάρχει ανάγκη για μια διαδικασία κοπής όπως το τεμάχιο στόχου που παρασκευάζεται με τη μέθοδο θερμής συμπίεσης, η οποία μπορεί να βελτιώσει σημαντικά την απόδοση παραγωγής. Επιπλέον, σε σύγκριση με τη μέθοδο θερμής συμπίεσης για την προετοιμασία περιστρεφόμενων στόχων οξειδίου του νιοβίου, οι οποίοι είναι ευαίσθητοι στα ελαττώματα του ύψους του υλικού στόχου < 10="" mm="" λόγω="" του="" περιορισμού="" του="" μεγέθους="" του="" εξοπλισμού,="" αυτή="" η="" μέθοδος="" δεν="" επηρεάζεται="" από="" το="" μέγεθος="" του="" εξοπλισμού,="" και="" διαφορετικά="" μεγέθη="" στόχων="" μπορούν="" να="" ληφθούν="" χρησιμοποιώντας="" διαφορετικά="" καλούπια="" και="" το="" ύψος="" του="" υλικού="" στόχου="" μπορεί="" να="" φτάσει="" περισσότερα="" από="" 300="">

Δημοφιλείς Ετικέτες: περιστρεφόμενος στόχος οξειδίου του νιοβίου, προμηθευτές, κατασκευαστές, εργοστάσιο, προσαρμοσμένο, αγορά, τιμή, προσφορά, ποιότητα, προς πώληση, σε απόθεμα