Στόχοι εκτόξευσης τιτανίου

Ποιοι είναι οι στόχοι για την εκτόξευση τιτανίου;
Είναι κρίσιμο να κατανοήσουμε αρχικά το τιτάνιο για να κατανοήσουμε τους στόχους εκτόξευσης τιτανίου.

Το μεταλλικό στοιχείο τιτάνιο είναι γνωστό για τη στιβαρότητα και την αντοχή του. Είναι πολύτιμο ως πυρίμαχο μέταλλο λόγω του συγκριτικά υψηλού σημείου τήξης του (πάνω από 1.650 βαθμούς ή 3,{3}} βαθμοί F). Η επίστρωση διασκορπισμού είναι μια μέθοδος που χρησιμοποιεί στόχους τιτανίου, οι οποίοι είναι κατασκευασμένοι από μέταλλο τιτανίου.

Η χύτευση και η τήξη είναι οι δύο βασικές διαδικασίες που χρησιμοποιούνται για τη δημιουργία στόχων τιτανίου.

Όταν ένα μέταλλο λιώνει, χρησιμοποιείται υψηλή θερμοκρασία για να γίνει υγρό. Ένας στόχος παράγεται μόλις μπει σε καλούπι και του δοθεί χρόνος να κρυώσει.

Χύτευση: Σωματίδια υψηλής ενέργειας εκτοξεύονται στο μέταλλο στο εσωτερικό ενός θαλάμου κενού. Το μέταλλο εξατμίζεται ως αποτέλεσμα, συμπυκνώνοντας στην επιφάνεια του στόχου όταν κρυώνει.

Προδιαγραφές Titanium (Ti).

Ένα από τα βασικά στοιχεία για τη δημιουργία ολοκληρωμένων κυκλωμάτων, η καθαρότητά του απαιτεί συχνά περισσότερο από 99,99 τοις εκατό. Για τις βιομηχανίες ημιαγωγών και ηλιακών ειδών, η AEM παρέχει στόχους από κράμα τιτανίου, όπως το Τιτάνιο βολφραμίου (W/Ti 90/10 % wt ) Sputtering Target. Η πυκνότητα στόχος για την εκτόξευση W/Ti μπορεί να υπερβαίνει τα 14,24 g/cm3 και η καθαρότητα μπορεί να πλησιάσει το 99,995 τοις εκατό.

Το όλκιμο και ισχυρό μεταλλικό τιτάνιο έχει χαμηλή πυκνότητα (ειδικά σε περιβάλλον χωρίς οξυγόνο). Είναι πολύτιμο ως πυρίμαχο μέταλλο λόγω του σχετικά υψηλού σημείου τήξης του (πάνω από 1.650 βαθμούς ή 3,{4}} βαθμοί F). Έχει χαμηλή ηλεκτρική και θερμική αγωγιμότητα και είναι παραμαγνητικό. Η επίστρωση εργαλείων υλικού, η διακοσμητική επίστρωση, η επίστρωση εξαρτημάτων ημιαγωγών και η επίστρωση επίπεδων οθονών είναι όλες συχνές χρήσεις για στόχους εκτόξευσης τιτανίου. Ένα από τα βασικά στοιχεία για τη δημιουργία ολοκληρωμένων κυκλωμάτων, η καθαρότητά του απαιτεί συχνά περισσότερο από 99,99 τοις εκατό. Για τις βιομηχανίες ημιαγωγών και ηλιακών ειδών, η AEM παρέχει στόχους από κράμα τιτανίου, όπως το Τιτάνιο βολφραμίου (W/Ti 90/10 % wt ) Sputtering Target. Η πυκνότητα στόχος για την εκτόξευση W/Ti μπορεί να υπερβαίνει τα 14,24 g/cm3 και η καθαρότητα μπορεί να πλησιάσει το 99,995 τοις εκατό.

Οι χρήσεις περιλαμβάνουν επίπεδες οθόνες, διακοσμητικές επιστρώσεις για εργαλεία υλικού και ημιαγωγούς.

Χαρακτηριστικά: Χαμηλό κόστος? υψηλή καθαρότητα; ραφιναρισμένο σιτάρι? μηχανική μικροδομή? μέσο μέγεθος κόκκου 20 μm. βαθμού ημιαγωγών.

Στον ιστότοπό μας, παρέχουμε μια ευρεία επιλογή στόχων εκτόξευσης, πηγών εξάτμισης και άλλων υλικών εναπόθεσης, οργανωμένες ανά ουσία. Πηγαίνετε εδώ για να ζητήσετε μια εκτίμηση για στόχους ψεκασμού και άλλα προϊόντα εναπόθεσης που δεν αναφέρονται ή για να μιλήσετε απευθείας με κάποιον σχετικά με τις τρέχουσες τιμές.zy@tantalumysjs.com

Δημοφιλείς Ετικέτες: στόχοι sputtering τιτανίου, προμηθευτές, κατασκευαστές, εργοστάσιο, προσαρμοσμένο, αγορά, τιμή, προσφορά, ποιότητα, προς πώληση, σε απόθεμα