Στόχοι εκτόξευσης τιτανίου βολφραμίου

Στόχοι εκτόξευσης τιτανίου βολφραμίου:

Οι στόχοι μας για βολφραμίου τιτανίου παράγονται χρησιμοποιώντας τεχνικές μεταλλουργικής κατασκευής σκόνης αιχμής. Προσφέρουμε στόχους κατάδυσης WTi σε μια σειρά μεγεθών, με διάμετρο έως 400 χιλιοστά. Είμαστε από τους πρώτους κατασκευαστές που δημιούργησαν το WTi τόσο ως περιστροφικό όσο και ως επίπεδο στόχο. Η περιεκτικότητα σε τιτάνιο των στόχων μας WTi είναι συνήθως 10% κατά βάρος.

Στόχοι εκτόξευσης βολφραμίου-τιτανίου

Κράμα βολφραμίου-τιτανίου

Περιοχές εφαρμογής για βολφράμιο-τιτάνιο:
Το βολφράμιο-τιτάνιο (WTi), το οποίο περιέχει 10% τιτάνιο κατά βάρος, χρησιμοποιείται ως κόλλα επιμετάλλωσης και φράγμα διάχυσης σε μικροτσίπ. Σε αυτή την περίπτωση, το WTi χρησιμοποιείται για τον διαχωρισμό των στρωμάτων επιμετάλλωσης και ημιαγωγών, όπως ο χαλκός από το πυρίτιο ή το αλουμίνιο από το πυρίτιο. Χωρίς εμπόδια διάχυσης, το πυρίτιο και ο χαλκός θα συνδυάζονταν για να δημιουργήσουν μια διαμεταλλική φάση στα μικροτσίπ, η οποία θα έθετε σε κίνδυνο την απόδοση του ημιαγωγού. Ένα στρώμα φραγμού WTi χρησιμοποιείται σε εύκαμπτα ηλιακά κύτταρα λεπτής μεμβράνης (CIGS) για να σταματήσει τη διάχυση ιόντων σιδήρου μέσω της πίσω επαφής του μολυβδαινίου και στον ημιαγωγό. Η απόδοση των ηλιακών κυψελών CIGS μπορεί να μειωθεί σημαντικά με λίγα μόνο g/g σιδήρου.

α. Η μεταλλουργία σκόνης χρησιμοποιείται για τη δημιουργία στόχων εκτόξευσης τιτανίου βολφραμίου, οι οποίοι χρησιμοποιούνται ευρέως στην κατασκευή ηλιακών κυψελών ημιαγωγών και λεπτής μεμβράνης.

Το b.WTi10wt% λεπτό φιλμ χρησιμοποιείται σε εφαρμογές ημιαγωγών ως στρώμα πρόσφυσης και φράγμα διάχυσης για την απομόνωση των στρωμάτων επιμετάλλωσης από τον ημιαγωγό, όπως ο χαλκός ή το αλουμίνιο από το πυρίτιο. Ως αποτέλεσμα, η λειτουργία τρανζίστορ στα μικροτσίπ μπορεί να βελτιωθεί σημαντικά.

Το λεπτό φιλμ c.WTi10wt% χρησιμοποιείται επίσης σε ηλιακά κύτταρα λεπτής μεμβράνης ως στρώμα φραγμού για να σταματήσει τη διάχυση ιόντων σιδήρου από το υπόστρωμα χάλυβα στην πίσω επαφή μολυβδαινίου και τον ημιαγωγό CIGS. Οι στόχοι από τιτάνιο βολφραμίου χρησιμοποιούνται επίσης για την κάλυψη εργαλείων και LED .

Στα δύο σχήματα, μια επιμετάλλωση ημιαγωγών με flip chip χρησιμοποιώντας στρώματα WTi φαίνεται κάτω από τη σχηματική κατασκευή ενός ηλιακού κυττάρου CIGS στα αριστερά.

Η ποιότητα του στρώματος αυξάνεται με την καθαρότητα της ουσίας επικάλυψης. Για να εξασφαλίσουμε το μέγιστο επίπεδο καθαρότητας υλικού, χρησιμοποιούμε μόνο την πιο καθαρή σκόνη και την ανακατεύουμε στις δικές μας εγκαταστάσεις από την αρχή. Από τη σκόνη μέχρι το τελικό προϊόν, παρακολουθούμε στενά κάθε στάδιο για να βεβαιωθούμε ότι μόνο στόχοι με την ακριβή εγγυημένη πυκνότητα, καθαρότητα και ομοιογενή μικροδομή φεύγουν από τις εγκαταστάσεις μας.

Το εργοστάσιό μας είναι σε θέση να κατασκευάζει στόχους με WTi 90/10wt%, WTi 85/15wt%, και ειδική σύνθεση Tungsten Titanium Sputtering Targets που μπορούν να προσαρμοστούν. Η πυκνότητα των πραγματικών στόχων είναι > 99%, και το τυπικό μέγεθος κόκκου είναι 100um. Οι τελικοί χρήστες μπορούν να επιτύχουν σταθερούς ρυθμούς διάβρωσης και υψηλή καθαρότητα και ομοιογενή επίστρωση λεπτής μεμβράνης κατά τη διαδικασία PVD με καθαρότητα έως και 4N5 και ειδική επεξεργασία ανόπτησης, ομοιόμορφο μέγεθος κόκκων και μειωμένη περιεκτικότητα σε αέριο.

Εάν έχετε οποιεσδήποτε ανάγκες ή ερωτήσεις, μη διστάσετε να επικοινωνήσετε μαζί μας.

 

 

ΕΠΙΚΟΙΝΩΝΗΣΤΕ ΜΑΖΙ ΜΑΣ

Διευθυντής Πωλήσεων:

Επικοινωνία: Li Fengwu

Email: kd@tantalumysjs.com

Τηλ: 13379388917

Φαξ: 0917-3139100

Ταχυδρομικός κώδικας: 721013

Ιστοσελίδα: https://www.tantalumysjs.com/

Προσθήκη: Βιομηχανική Ζώνη του χωριού Wenquan, Ζώνη Ανάπτυξης Gaoxin, πόλη Baoji, επαρχία Shaanxi, Κίνα

Δημοφιλείς Ετικέτες: στόχοι εκτόξευσης τιτανίου βολφραμίου, προμηθευτές, κατασκευαστές, εργοστάσιο, προσαρμοσμένο, αγορά, τιμή, προσφορά, ποιότητα, προς πώληση, σε απόθεμα